Технологический разрыв между Китаем и западными производителями остается критическим, несмотря на масштабные инвестиции Пекина в собственную полупроводниковую промышленность. Сейчас основная энергия китайских инженеров сосредоточена на DUV-литографии, которая позволяет выпускать менее сложные микросхемы, но не подходит для массового производства топовых процессоров под искусственный интеллект или высокопроизводительные вычисления.
Китай отстает от передовой литографии на 15 лет
Пекину потребуется около 15 лет, чтобы догнать мировых лидеров в разработке EUV-литографии, ключевой технологии для создания современных чипов. Об этом заявил Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой компании Zeiss, выступая в эфире Bloomberg TV и оценивая текущие возможности китайских разработчиков в сравнении с оборудованием ASML.
Экспериментальные установки, созданные в КНР, пока не способны конкурировать с западными аналогами в точности и стабильности процессов. Отсутствие доступа к передовым EUV-сканерам ASML вынуждает Китай действовать в режиме догоняющего, а сложность самой технологии экстремального ультрафиолета делает задачу быстрого прорыва практически невыполнимой в ближайшие годы.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!