Новая установка призвана превзойти текущие системы с высокой числовой апертурой, известные как High-NA EUV. Инженеры рассчитывают увеличить разрешение оборудования более чем на треть, что позволит формировать структуры размером около 5 нанометров. Для производителей электроники это означает возможность кратного роста производительности при одновременном снижении энергопотребления чипов, что сегодня упирается в физические пределы литографии.
ASML проектирует литографию Hyper NA для чипов будущего
Нидерландский гигант ASML объединился с инженерами Carl Zeiss для разработки литографической системы Hyper NA, способной радикально уменьшить размер элементов микросхем. Проект находится на ранней стадии, а создание полноценного оборудования может потребовать около десяти лет интенсивных исследований и испытаний, прежде чем технология станет доступна для полупроводниковой индустрии.
Техническая сложность проекта заключается в создании оптики сверхвысокой точности, над чем сейчас работают специалисты Carl Zeiss. В самой ASML планируют сократить издержки и сроки разработки за счет интеграции существующих решений, в частности, уже отлаженных источников света. Хотя компания пока не утвердила окончательный план запуска серийного производства, успех Hyper NA определит темпы развития всей мировой микроэлектроники на следующее десятилетие.
Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!