
Зеленоградский центр представил установку для производства 150-нм чипов
Зеленоградский нанотехнологический центр перешел к испытаниям первых образцов оборудования для безмасковой электронно-лучевой литографии. Новая установка позволяет формировать рисунок микросхем с топологическими нормами 150 нанометров напрямую на кремниевых подложках, минуя этап изготовления дорогостоящих масок для каждого отдельного прототипа или малой серии изделий.





















